Литография рентгеновская
Термин
литография рентгеновская
Термин на английском
Связанные термины
Определение
технология электронных микросхем; вариант литографии, использующий экспонирование (облучение) резиста с помощью рентгеновских лучей
Описание
Рентгеновская литография использует мягкое рентгеновское излучения с длиной волны 0.5-4.0 нм. Пучок рентгеновских лучей пропускается через шаблон и экспонирует слой резиста. Оптическими элементами рентгеновских литографических установок могут быть отражающие зеркала (рефлекторы) на основе наногетероструктур со слоями Ni-C, Cr-C, Co-C, Mo-C, W-C и зонные пластинки; в качестве шаблонов используются тонкие (1 мкм и меньше) металлические мембраны. Многослойные рентгеновские зеркала обеспечивают брэгговское отражение при условии d = ?/(2sin?), где d - период структуры и ? - угол скольжения. При перпендикулярном падении излучения ? = 90° и период d = ?/2, поэтому толщина каждого слоя в рентгеновском зеркале равна примерно ?/4 или 1 нм. Рентгенолитография, как и оптическая литография, осуществляется путем одновременного экспонирования большого числа деталей рисунка, но коротковолновое рентгеновское излучение позволяет создавать рисунок с более тонкими деталями и более высоким разрешением.
Авторы
Ссылки
Разделы
Управляемые методы формирования наноструктур
| Главная |