Словарь нанотехнологий
Литография электронно-лучевая

Литография электронно-лучевая

Термин

литография электронно-лучевая

Термин на английском

electron beam lithography

Связанные термины

литография

Определение

нанотехнология электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста с помощью электронного пучка

Описание

Имеются две системы электронно-лучевой литографии - сканирующая и проекционная.

В сканирующей электронно-лучевой литографии резист экспонируется (сканируется) последовательно перемещаемым в плоскости рисунка фокусированным пучком электронов. Управление электронным лучом производится по определенной программе с помощью компьютера, поэтому не нужно применять какие-либо шаблоны или маски, но последовательное сканирование всего рисунка увеличивает время экспонирования.

В проекционной электронно-лучевой литографии широкий нефокусированный поток электронов используется для получения всего рисунка в течение одной экспозиции. В такой системе фотокатод расположен на поверхности оптической маски с заданным рисунком. Ультрафиолетовые лучи облучают фотокатодный слой через маску, что вызывает эмиссию электронов с фотокатода в облученных местах рисунка. Эти электроны проецируются на поверхность резиста с помощью однородных электростатических и магнитных полей. В результате на всей площади подложки рисунок создается за одну экспозицию.

Авторы

• Гусев Александр Иванович, д.ф.-м.н.

Ссылки

1. А. И. Гусев. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. Изд. 2-е, исправленное и до-полненное. Москва: Наука-Физматлит, 2007. 416 с.

Иллюстрации

	проекционная система электронно-лучевой литографии
	сканирующая система электронно-лучевой литографии

Разделы

Управляемые методы формирования наноструктур

Методы обработки и формирования структур с прецизионным позиционированием (нанолитография, нанообработка, нанопечать, наноструйная техника и другое)