Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
Термин
плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
Термин на английском
plasma-enhanced chemical vapor deposition
Синонимы
плазмохимическое газофазное осаждение, осаждение из паровой фазы, стимулированное плазмой
Аббревиатуры
PECVD, ПХО, ПХГФО
Связанные термины
нанопорошок, углеродные нанотрубки
Определение
процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы
Описание
Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приемов возбуждения плазмы в реакционном объеме и управление ее параметрами позволяет интенсифицировать процессы роста покрытий, проводить осаждение аморфных и поликристаллических пленок при значительно более низких температурах подложки, делает более управляемыми процессы формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичныхи процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанном на термическом разложении реакционного газа.
Авторы
Ссылки
Иллюстрации
|
Пример применения ПХО: Массив углеродных нанотрубок, выращенных на металлических катализаторах УНТ были получены из плазмы, содержащей ацетилен и аммиак в соотношении 1:3, при температуре 750 °С и при пониженном давлении. Изменение технологических режимов модуля плазменного осаждения из газовой фазы позволяет получать нанотрубки различной длины и диаметра. |
Разделы
Плазмохимическое, ионно- и электронно-лучевое модифицирование поверхности
| Главная |