Эпитаксия газофазная
Термин
эпитаксия газофазная
Термин на английском
metalorganic vapour phase epitaxy
Аббревиатуры
MOVPE
Связанные термины
гетероэпитаксия, гомоэпитаксия, нановискер, химическое осаждение из паров металлорганических соединений, эпитаксия молекулярно-лучевая, метод
Определение
1) разновидность эпитаксии как одного из нанотехнологических методов получения полупроводниковых гетероструктур;
2) разновидность метода химического осаждения из газовой фазы, при которой формируются эпитаксиальные пленки.
Описание
Газофазное эпитаксиальное наращивание на подложке монокристаллических слоев полупроводниковых веществ осуществляется из металлоорганических соединений в реакторе при пониженном давлении. Газофазная эпитаксия первоначально разрабатывалась для выращивания кремния и арсенида галлия, сейчас применяется для выращивания большинства полупроводниковых материалов, используемых в микро- и оптоэлектронике. В реакторе располагаются подложки (тонкие срезы монокристалла), к которым поступает газовая смесь. При выращивании кремния основным компонентом газовой смеси является тетрахлорид кремния SiCl4 или силан SiH4, при выращивании арсенидов и фосфидов - алкилы соответствующих металлов (Ga(CH3)3, Al(CH3)3, Ga(C2H5)3, In(C2H5)3), а также арсин AsH3 и фосфин PH3. Газовая смесь при высокой температуре пиролитически разлагается вблизи поверхности роста, и элементы третьей группы взаимодействуют с элементами пятой группы, образуя соединения AIIIBV. В результате происходит послойное формирование полупроводникового соединения. С помощью газовой эпитаксии выращивают гетероструктуры GaAlAs/GaAs с квантовыми ямами для инжекционных лазеров, гетероструктуры GaAs/GaAlAs с селективным легированием, гетероструктуры с квантовыми точками, широкозонные полупроводниковые материалы на основе GaN для изготовления синих и зелёных светодиодов и коротковолновых лазеров.
Авторы
Ссылки
Иллюстрации
Схема реактора установки газофазной эпитаксии |
Разделы
Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем
Главная |